Resumen
This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.
Informaciones generales
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Estado: En desarrollo
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Etapa: Voto sobre el DIS iniciado: 12 semanas [40.20] -
Edición: 1Número de páginas: 13
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Comité Técnico :ISO/TC 107ICS :25.220.01
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