ISO 22278:2020

Résumé

This document specifies the test method for measuring the crystalline quality of single-crystal thin film (wafer) using the XRD method with parallel X-ray beam. This document is applicable to all of the single-crystal thin film (wafer) as bulk or epitaxial layer structure.

Informations générales

État actuel
: Publiée

Date de publication
: 2020-08
Edition
: 1
Comité technique
: ISO/TC 206 Céramiques techniques
ICS
:
81.060.30 Céramiques techniques avancées

Cette norme contribue à l'Objectif de développement durable suivant :

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