ISO 14701:2018
p
ISO 14701:2018
74818
недоступно на русском языке

Текущий статус : Опубликовано (Hа стадии пересмотра)

ru
Формат Язык
std 1 96 PDF + ePub
std 2 96 Бумажный
  • CHF96
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies several methods for measuring the oxide thickness at the surfaces of (100) and (111) silicon wafers as an equivalent thickness of silicon dioxide when measured using X-ray photoelectron spectroscopy. It is only applicable to flat, polished samples and for instruments that incorporate an Al or Mg X-ray source, a sample stage that permits defined photoelectron emission angles and a spectrometer with an input lens that can be restricted to less than a 6° cone semi-angle. For thermal oxides in the range 1 nm to 8 nm thickness, using the best method described in this document, uncertainties, at a 95 % confidence level, could typically be around 2 % and around 1 % at optimum. A simpler method is also given with slightly poorer, but often adequate, uncertainties.

Preview 

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2018-11
    : Систематический пересмотр между-народного стандарта [90.20]
  •  : 2
  • ISO/TC 201/SC 7
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)