ISO/DIS 8181
u
ISO/DIS 8181
82998
недоступно на русском языке

This document defines the terms involved in atomic layer deposition technology and the corresponding applications. The basis of atomic layer deposition and the physical and chemical properties of thin films, as well as their detection methods are included. The terms in corresponding applications of thin films via atomic layer deposition are defined, such as microelectronics, photovoltaics, display, energy and catalysis.


Общая информация 

  •  :  Under development
    You can comment on this draft international standard by contacting your national member
  •  : 1
  •  : ISO/TC 107 Metallic and other inorganic coatings
  •  :
    01.040.25 Manufacturing engineering (Vocabularies)
    25.220.01 Surface treatment and coating in general

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития:

Приобрести данный стандарт

ru
Формат Язык
std 1 40 PDF
std 2 40 Бумажный
  • CHF40

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.