ISO 14237:2010
p
ISO 14237:2010
44882
недоступно на русском языке

Тезис

 Preview

ISO 14237:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method for the determination of boron atomic concentration in single-crystalline silicon using uniformly doped materials calibrated by a certified reference material implanted with boron. This method is applicable to uniformly doped boron in the concentration range from 1 x 1016 atoms/cm3 to 1 x 1020 atoms/cm3.


Общая информация 

  •  : Опубликовано
     : 2010-07
  •  : 2
  •  : ISO/TC 201/SC 6 Secondary ion mass spectrometry
  •  :
    71.040.40 Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

ru
Формат Язык
std 1 124 PDF
std 2 124 Бумажный
  • CHF124

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)